New York: Midtown und Empire State Building USA, New York, Amerika, Nordamerika | © iStock.com/FilippoBacci

Der Weg in den US-Markt - Praxiswissen für deutsche Unternehmen (Oktober 2026)

Rechtssicher in den US-Markt: Erfahren Sie, welche rechtlichen Herausforderungen deutsche Unternehmen kennen und frühzeitig berücksichtigen sollten. 

06 Okt. 2026

Der Weg in den US-Markt - Praxiswissen für deutsche Unternehmen (Oktober 2026)

Zur Aufzeichnung

Die USA gehören zu den wichtigsten Handelspartnern Deutschlands und sind für viele deutsche Unternehmen ein attraktiver Wachstumsmarkt.

Gleichzeitig bringt der US-Markteintritt zahlreiche rechtliche Herausforderungen mit sich. Wer frühzeitig die richtigen Weichen stellt, kann Risiken vermeiden und den Grundstein für einen erfolgreichen Start legen.

In diesem Webinar erhielten Sie einen Überblick über die wichtigsten rechtlichen Aspekte des US-Markteintritts. Erfuhren welche Rechtsform für Ihre Unternehmensgründung in den USA geeignet ist und welcher US-Bundesstaat für die Gründung einer US-Gesellschaft sinnvoll sein kann.

Ein weiterer Schwerpunkt lag auf der Entsendung von Mitarbeitern in die USA. Ob Entsendung von Führungskräften oder Fachkräften – wir beleuchteten die wesentlichen Fragen rund um Visa, Arbeitsrecht, Sozialversicherung und Steuern und zeigten auf, worauf Unternehmen achten sollten.

Natürlich durfte auch ein Blick auf die berüchtigte US-Produkthaftung nicht fehlen. Was steckt dahinter? Ist sie tatsächlich so risikoreich, wie häufig angenommen wird?

Nutzen Sie die Gelegenheit, sich über die wichtigsten rechtlichen Rahmenbedingungen für einen erfolgreichen Markteintritt in die USA zu informieren und typische Fehler bereits im Vorfeld zu vermeiden.

Präsentation:
Juliane Eichler, LL.M., Director Legal Department, Attorney at Law, Deutsch-Amerikanische Handelskammer New York (AHK USA - New York)
Jan Sebisch, LL.M., Senior Manager, Ausländisches Wirtschaftsrecht, Germany Trade and Invest

 

Hier finden Sie die Präsentation sowie den Link zur Aufzeichnung.